氣冷式半導體雷射標刻機 - SMF6-D - 順茂雷射標刻機

氣冷式半導體雷射標刻機 SMF6-D

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產品描述

集合美國日本及德國關鍵零配件之半導體控制模組,每一個均經過嚴格的品質控制,穩定性高、標刻速度快,可針對不同工件達到完美效果。Marco雷射體積小可輕易攜帶及放置任何桌面,適合於少量多樣化之使用。
 

型號/規範 SMF6-D
平均輸出功率    6W± 0.5W
雷射波長       1064 ± 1nm
光束品質與可調頻率 M2<1.3
20KHz(固定)
脈衝寬度  8ns(@20KHz)
脈衝最大能量 Max.40KW(@20KHz)
光點大小 直徑 0.04~0.06 mm(標準F163鏡頭,110X110mm標刻範圍)
標刻位置指示 3mW@635nm 內建二極體紅光標刻位置指示
電源 單相電源110-230VAC/50/60HZ
消耗功率 <500W
內建箝入式電腦  Windows7 OS,64G Memory,Marco 5.1雷射控制標刻軟體   
工作溫度 +0°C ~ +35°C
冷卻方式 空氣冷卻
控制箱尺寸、重量    長x寬x高 = 334mm X 219mm X 245mm 重8.5公斤
雷射槍尺寸、重量 長x寬x高 = 479mm X 100mm X 100mm 重5.8公斤
聚焦鏡尺寸、光點大小及標刻範圍 F100,0.03mm(標準), 70X703mm,標準配備為F163,0.05mm(標準),110X110mm ,F250,0.07mm(標準) ,175X175mm

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